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硬鉻電鍍工藝操作條件

文字:[大][中][小] 手機頁面二維碼 2016/6/28     瀏覽次數:    


  操作條件

鍍液組成及工藝條件
標準開缸
適用范圍
鉻酐
240克/升
225-275克/升
純硫酸
2.7克/升
2.5-4.0克/升
RC-25K開缸劑
20毫升/升
10-30毫升/升
陰極電流密度
60安培/平方分米
30-75安培/平方分米
陽極電流密度
30安培/平方分米
15-35安培/平方分米
工作溫度
58℃
50-60℃

  設備要求

  鍍槽:硬聚氯乙烯板或鋼槽內襯軟聚氯乙烯均可,槽邊應有抽風設備;

  整流器:要有足夠的容量與鍍槽配套,波紋系數小于5%,電壓不小于15V;

  陽極:使用的陽極為鉛錫合金(錫:7%)或鉛銻合金,輔助及象形陽極亦應采用鉛錫或鉛銻合金;

  加熱器:選用鈦、鉛或聚四氯乙烯材料;

  冷卻管:選用鈦或鉛材料;

  過濾泵:過濾泵的材料宜采用不銹鋼或適當的耐鉻酸塑料。


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